Бежать на полшага впереди. Лукашенко поставил задачу перед белорусской микроэлектронной промышленностью

30.01.2026

«Это будущее», — подчеркнул глава государства.

«Если ты не отстанешь, у тебя всегда будет работа и большие деньги. Не только наши, — сказал Александр Лукашенко генеральному директору ОАО «Планар» Сергею Авакову. — Ты опередил все и вся. И в Беларуси, и в России. Ты всех опередил».

«Мы — единственная страна, которая сохранила это производство в таком объеме. Мы все сохранили, что осталось от советского времени. Наше время пришло. Мы не зря вкладывали деньги. Мы оказались востребованными», — заметил глава государства.

Александр Лукашенко подчеркнул, что в сфере микроэлектронной промышленности надо и далее «бежать на полшага впереди и выдавать продукцию, востребованную во всем мире».

В ОАО «Планар» запускается Центр спецтехнологического оборудования для производства фотошаблонов и микрооптики. Это единственный на территории стран бывшего СССР комплекс, позволяющий изготавливать изделия технологического уровня 90 нм, критически необходимые для создания передовых образцов оборудования электронного машиностроения.

•  Все подготовительные, проектные и строительно-монтажные работы были выполнены в максимально сжатые сроки, за счет чего удалось завершить создание центра на 2 года раньше планируемого срока.

По итогам выполнения всех работ в инженерно-лабораторном корпусе создан Центр спецтехнологического оборудования для производства изделий микрооптики и фотошаблонов. Компетенциями по разработке и созданию подобного оборудования обладают лишь несколько стран в мире: США, Япония, отдельные страны Евросоюза. При этом линейка оборудования для бездефектного изготовления фотошаблонов, размещенная в центре, является уникальной, так как ни одно государство в мире не обладает компетенциями по разработке и изготовлению всей номенклатуры лазерного оборудования электронного машиностроения, необходимой для организации технологического процесса производства фотошаблонов.

С учетом перспектив развития, у центра имеется потенциал для последующего перехода к более низким проектным нормам — 65 нм, для чего планируется дооснастить производство.